来源丨PHI与高德
本文内容来自PHI CHINA表面分析技术网络讲堂之光电子能谱专题,主讲老师为鞠焕鑫博士给大家作了知识点总结。相信小伙伴们已经迫不及待的想要了解了吧!快快拿起您的纸和笔,让我们一起来划重点:
文献中Fe2p拟合非常混乱,有的是Fe2+的B.E.比Fe3+更高,有的更低。究竟那个价态更高呢?
这个问题也是XPS谱图解析过程中常见的问题,不同的文献报道的XPS结合能位置会有存在差异,可能的原因如下:
(a)即使都是Fe2+,但是配位的原子不同也会有不同的结合能位置,如下图的FeO、FeCO3和FeSO4;
(b)即使都是FeO,但是不同文献所测试样品形态不同、测试仪器不同、结合能校准方法不同,也会导致Fe2+结合能位置不完全一致;
氧成分的来源有多种可能:
(a)样品含有氧或者易被氧化,在传递到仪器进行测试前就已经含有氧;
(b)测试时,X射线束斑照射到样品以外的区域;
(c)如果测试的是用导电胶粘的粉末样品,XPS可能探测到导电胶中的氧成分;
(a)O1s的能量损失谱是由于价带电子向导带电子跃迁而产生的,这个跃迁能量对应于Band gap,如下图所示;
PHI的仪器集成SXI成像功能?可以当SEM吗?
刻蚀深度分析过程?刻蚀的深度测定?
(a)XPS是表面分析方法,探测深度通常小于10nm,所以在需要结合离子源刻蚀进行深度分析,例如先用XPS测试表面信息,然后用离子源刻蚀移除表面,之后重复XPS测试和刻蚀过程。
疫情虽在,学习不断。希望PHI CHINA的课程可以为小伙伴们增加一些实在又实用的知识。接下来的两周,PHI CHINA将继续为大家献上光电子能谱的专题讲座,快来为即将到来的开学学习暖暖身吧!
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