溅射镀膜装置有哪些？

由于真空镀膜领域的特殊性，镀膜工艺主要通过设备来实现，由于真空镀膜设备的研制涉及真空技术、薄膜技术、低温等离子体技术、机械、电气控制以及真空镀膜系统集成等多门学科，技术难度大，行业进入技术门槛高，此外还受技术、资金、人力等因素的限制，因此行业潜在竞争者较少。大面积多层光学薄膜制备技术包括大面积膜层性能的均匀性和各膜层的厚度的精确控制。多层膜沉积技术的关键在于精确控制各膜层的厚度及其均匀性，在线膜厚检测系统可以保证精确的膜层厚度，得到所需的膜系性能。各膜层的沉积状态稳定，且各沉积过程互不干扰。多层膜沉积技术涉及到氧化物沉积技术、膜层均匀性和稳定性等影响产品质量好坏的关键工艺技术。

20世纪80年代末，中国诞生了第一条TN (twisted nematlc，扭曲向列型)-LCD用ITO 连续镀膜生产线。该生产线采用的工艺路线是将铟锡合金材料利用直流磁控溅射的原理沉积到基片的表面，并进行高温氧化处理，将铟锡合金薄膜转换成所需的ITO薄膜。这种生产线的特点是设备的产能较低，质量较差，工艺调节复杂。

20世纪90年代中期，随着国内LCD (液晶显示) 产业的发展，对ITO产品的需求量增大的同时，对产品的质量有了新的要求，因此出现了第二代ITO镀膜生产线。该生产线不仅产量比第一代生产线有了大幅度的提升，同时由于直接采用ITO 陶瓷靶材沉积ITO 薄膜，并兼容了射频磁控溅射沉积SiO2 薄膜的工艺，使该生产线无论从产品的质量上、还是工艺可控性等方面与第一代生产线相比均有了质的飞跃。

1999年，随着中频反应磁控溅射沉积SiO2薄膜工艺的成功，有效地解决了射频磁控溅射沉积Sio2薄膜的沉积速率慢影响生产线的产能和设备的利用率等一系列问题，同时出现了第三代大型高档ITO薄膜生产线。该生产线成功应用了中频反应溅射SiO2薄膜的工艺、采用全分子泵无油真空系统、独立的全自动小车回架机构。该生产线具备生产中高档STN(super twisted nematic ，超扭曲向列型)-LCD 用ITO 薄膜材料的能力。

随着反射式LCD，增透式LCD，LCOS （liquid crystalon silicon，属于新型的反射式micro LCD 投影技术) 投影机背投电视等显示器件的发展，对ITO 薄膜产品提出了新的要求，SiO2/ITO两层膜结构的ITO薄膜材料满足不了使用的需要，而必须采用多层复合膜系以达到产品的高反射性或高透过率等光学性能要求。深圳豪威公司推出了第四代大型多层薄膜生产线。该生产线由15个真空室组成，采用全分子泵无油真空系统、使用了RF (射频) /MF (中频) /DC(直流) 三种磁控溅射工艺、通过PEM (等离子发射谱监控) /PCV(压电控制) 进行工艺气体的控制。

随着PDA、电子书等触摸式输入电子产品的悄然兴起，相应材料的制成设备也应运而生。由于触摸式产品工作原理的特殊性，其所需的ITO薄膜必须是在柔性材料上制成，薄膜的沉积温度不能太高(小于120摄氏度)，同时要求ITO膜层较薄、面电阻高而且均匀，所以对ITO薄膜的沉积工艺提出了严格的要求。

随着有机电致发光显示器(OLED) 以及其他显示器件的发展，对ITO 薄膜的制成工艺和设备将会有更新、更高的要求，同时也有力地推动了ITO薄膜制成设备的发展，因此，ITO薄膜溅射装置将会有一个更为广阔的发展前景。

溅射法制备透明导电膜最广泛应用的工艺方法，主要包括直流、交流、射频的反应式和非反应式溅射，以及最近几年发展起来的磁控溅射和离子束溅射。关于溅射方法制备透明导电膜的报道很多，尤其是制备ITO和AZO，是目前工业生产的主流镀膜方式。国内ITO 和AZO薄膜多采用这种薄膜沉积方式。平面磁控溅射技术的工艺控制性好、技术成熟、可靠性高，并可大面积均匀成膜，因此，该工艺应用最为广泛，国际上工业化生产ITO透明导电薄膜大多采用此工艺。