当今世界，经济发达，文化兴盛。
闲暇之余，许多人会去参观各种博物馆。看到漂亮的、稀奇的，或者有文化艺术价值的展品。但是，由于馆内光线、人流等影响，拍出的照片往往并不尽如人意。
本文谨以个人经验，探讨一下通过前期拍摄和后期修图结合，拍出“干净”展品的方法。
展品的拍摄
博物馆内拍摄展品，会面临多重挑战：
博物馆的灯光布置，往往并不会考虑到观众摄影的需求，许多展品存在布光不均匀、不合理、光比大、背景杂乱、各展品照明灯光相互干扰等问题。
得罪了灯光师的巴尔扎克像 - 注意画面左下麦克风一样的小射灯和巴尔扎克先生右颊诡异的反光除媒体记者等特殊群体可能在非开放时段被允许携带三脚架、补光灯等器材入馆拍摄外，绝大多数博物馆/展览馆禁止观众携带脚架、自拍杆、双肩包等物品，因此手持拍摄几乎成为唯一的选择。
世界进入21世纪20年代，观众的素质并没有随着生活水平的提高而改善太多，喜欢乱摸的人比比皆是，因此展品外的玻璃罩上经常可见大小不一的脏手印。
博物馆中的展品，尤其是文物展品，安全最重要，因此经常被各种支架、扎带包围。这种情况，要么把托架视作展品的一部分，要么回家慢慢P掉支架……我选择前者
器材选择：
机身：在拥有多台机身时，推荐使用高宽容度的小底高像素防抖机身 - 高宽容度意味着可以在布光不理想的场景中更好地记录展品的高光与暗部信息，减小出现死黑、死白的可能；小底机身与大底机身相比在光圈和等效35mm焦距相同的情况下，可以获得更大的景深；高像素可以在展品较小，后期需要裁切图片突出重点的情况下，获得更大的二次构图自由度。镜头：大部分情况可以用等效全画幅24-70mm或24-105mm焦距，带有一定近摄/微距功能的变焦镜头，以便更好地对大小不一的展品进行构图拍摄。镜头光圈越大越好 - 虽然为了保证景深，多数立体形态的展品需要用小一些的光圈拍摄，但部分平面为主的展品（碑刻、书画等）就很适合用大光圈拍摄。辅助用品：餐巾纸或眼镜布（用于擦拭某些展品玻璃罩上的手印）、防反光罩（如有）
防反光/眩光罩，在隔着玻璃拍摄时，可以避免身后光线被玻璃反射进入镜头，形成难以通过后期手段消除的眩光。1、馆内人流较少、展品外没有玻璃罩反光的情况下，可以使用焦距较长的镜头，距离稍远进行拍摄，以减小透视变形；人多，或展品外玻璃罩反光强烈的情况下，则多需要贴近玻璃拍摄，以尽可能避免受到其他游客和反光的影响（必要时记得擦玻璃）。总体而言，使用焦段取决于展品尺寸和可接近距离等综合考虑的结果。2、对于平面类型的展品，如画作、碑刻等，可以使用镜头的最大光圈（或稍收一点光圈以改善画质，具体取决于镜头本身特性），以尽可能低的感光度和较短的曝光时间进行拍摄。3、对雕塑等立体形状的展品，需要视情况缩小光圈，以确保足够的景深。这种情况往往需要较高的感光度和较长的曝光时间，具体参数取决于摄影师对高感画质的接受度和手持拍摄的稳定程度，自行尝试。大光圈虽然可以减小防抖压力，并有助于使用较低感光度拍摄，但强烈的焦外虚化未必适合所有展品的拍摄（例图采用50mm镜头，以f/1.4光圈拍摄）4、合理使用机身动态范围设置 - 展品照明对摄影师往往不够友好，合理使用动态范围设置，有助于尽可能多地保留照片细节，尤其是高光部位细节。上大博物馆展出的三星堆青铜人像，可见其顶部及透明塑料托架的高光与阴影部位的巨大明暗反差5、测光模式与曝光 - 推荐采用中心加权或多重测光，开启高亮警报，适当欠曝，以尽量避免局部高光溢出。形状复杂的金属、陶瓷、玉器等，在展厅灯光环境里很容易产生局部过曝高光溢出现象。在此类题材拍摄的成片中，高光溢出（死白）会比阴影部位死黑更加显眼，因此在二者不能兼顾的情况下，老黄倾向于尽可能保留高光细节而牺牲暗部。
欠曝一档（左）与模拟正常曝光（C1中自动调整）的对比能在非开放时间带三脚架进入展馆的记者、展馆御用摄影师等人群具有更大的自由度，他们可以排除干扰从容布光，并使用曝光包围等手段拍摄展品的所有细节，而普通观众做不到这一点，因此不要去强行攀比，比不过的……
小结
展馆内，展品的光照亮度往往高过背景环境。因此在故意欠曝控制展品高光时，杂乱背景已经被大幅度压暗，但一些相对较亮的反光、灯光等仍会对画面产生影响。
为了获得更“干净”的画面，我们可以简单地利用Capture One或Lightroom等软件的涂层遮罩（蒙板）功能进行处理。本文使用Capture One进行示例。Lr等其它软件处理的原理大同小异，就不介绍了（因为我没装Lr）
第一步：加曝光，提亮阴影，凸显主体与背景的边缘（为后面手动擦选区提供便利），然后利用画面中的台子、墙缝等为参考，调节透视，适当裁剪构图：第二步：使用AI选择遮罩工具，选择雕塑与底座。根据个人习惯选择始终显示遮罩或“只在手绘时显示遮罩”：第三步：放大图像，使用手动绘制遮罩工具和橡皮擦工具修正遮罩边缘AI选择不准确的部位。第四步：在“图层与遮罩”面板中将遮罩命名为“主体+底座”，然后点击“➕”图标，建立新图层，右键点击新图层，选择从主体+底座图层复制遮罩第五步：再次右键点击新图层，选择“反转遮罩”，然后将其命名为“背景”第六步：再点击图层与遮罩面板中的“➕”，用AI遮罩工具建立雕像底座遮罩。这时我们有了三个不同的图层遮罩：第七步：对主体+底座图层进行曝光和明暗调节，在适当体现阴影部位细节的同时控制高光不过曝。第八步：拉黑背景，直至其不影响主体的表达 - 有些场景中，背景里有些高亮区域可能无法消除，这种情况可以使用修复工具搞定（略）。第九步：对底座图层稍稍减一点曝光，避免其喧宾夺主。
后记：昨天有朋友问我，如何准确还原展品的色彩。
这个问题着实难倒我了……展馆里的灯肯定不是标准白光，展品周围又有各色游客的衣服、彩色墙壁等杂光干扰，相机的自动白平衡也只是大致不差，又不能在展品旁边放标准色卡……想准确还原展品色彩，难度太高了……还是凭着自己残存的记忆，跟着感觉走吧
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